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发明名称
阻焊膜之形成方法及感光性组成物
摘要
本发明系提供一种阻焊膜之形成方法,其系将感光性组成物涂布于基材,使其乾燥后,于该乾燥涂膜,照射第1雷射光及与前述第1雷射光的波长相异之第2雷射光,被前述第1雷射光及第2雷射光两者照射之图型潜像形成后,以硷水溶液显像。而且,本发明的阻焊膜之形成方法所使用的感光性组成物,其曝光前的乾燥涂膜系厚度每25μm、于355~380nm的波长范围下显示0.6~1.2的吸光度,且于405nm的波长下显示0.3~0.6的吸光度。
申请公布号
TWI360022
申请公布日期
2012.03.11
申请号
TW096143195
申请日期
2007.11.15
申请人
太阳油墨制造股份有限公司 日本
发明人
柴崎阳子;加藤贤治;有马圣夫
分类号
G03F7/004;G03F7/031;H05K3/28
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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