发明名称 阻焊膜之形成方法及感光性组成物
摘要 本发明系提供一种阻焊膜之形成方法,其系将感光性组成物涂布于基材,使其乾燥后,于该乾燥涂膜,照射第1雷射光及与前述第1雷射光的波长相异之第2雷射光,被前述第1雷射光及第2雷射光两者照射之图型潜像形成后,以硷水溶液显像。而且,本发明的阻焊膜之形成方法所使用的感光性组成物,其曝光前的乾燥涂膜系厚度每25μm、于355~380nm的波长范围下显示0.6~1.2的吸光度,且于405nm的波长下显示0.3~0.6的吸光度。
申请公布号 TWI360022 申请公布日期 2012.03.11
申请号 TW096143195 申请日期 2007.11.15
申请人 太阳油墨制造股份有限公司 日本 发明人 柴崎阳子;加藤贤治;有马圣夫
分类号 G03F7/004;G03F7/031;H05K3/28 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本