| 发明名称 |
VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON CMOS-BAUELEMENTEN |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE3110477(A1) |
申请公布日期 |
1982.01.28 |
| 申请号 |
DE19813110477 |
申请日期 |
1981.03.18 |
| 申请人 |
INTEL CORP. |
发明人 |
K. YU,KENNETH;B. SEIDENFELD,MARK;T. BOHR,MARK |
| 分类号 |
H01L27/08;H01L21/225;H01L21/336;H01L21/74;H01L21/76;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/092;H01L29/06;H01L29/78;(IPC1-7):H01L29/78 |
主分类号 |
H01L27/08 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
