| 摘要 |
<p>Es wird eine Solarzelle mit einem hohen Konvertierungswirkungsgrad durch Erhöhen der Leerlaufspannung bereitgestellt. Bei einer Hetero-Grenzschicht-Solarzelle ist ein Halbleiter A mit einem Halbleiter B, der einen Leitungstyp unterschiedlich zu einem Leitungstyp des Halbleiters A hat, und mit einer Elektronenaffinität a2, die größer als eine Elektronenaffinität a1 des Halbleiters A ist, verbunden und die Kristallgitter des Halbleiters A und des Halbleiters B sind jeweils aneinander mit einem Fehlanpassungsverhältnis von weniger als 1% angepasst. Weiter werden bei einem Verfahren zum Herstellen einer Hetero-Grenzschicht-Solarzelle, bei dem ein Halbleiter A auf einen Halbleiter B von einem Leitungstyp, der verschieden zu einem Leitungstyp des Halbleiters A ist, und mit einer Elektronenaffinität a2, die größer als eine Elektronenaffinität a1 des Halbleiters A ist, verbunden wird, die Kristallgitter des Halbleiters A und des Halbleiters B jeweils aneinander mit einem Fehlanpassungsverhältnis von weniger als 1% angepasst und der Halbleiter A aus einem p-Typ-Silizium mit einer auf dessen Oberfläche ausgebildeten p-Typ-Germaniumschicht hergestellt und eine n-Typ-GaP nach Entfernen eines Oxid-Dünnschicht durch Entfernen der Germaniumschicht gebildet.</p> |
