一种提高提拉法ZnO薄膜透过率的制作方法

摘要

本发明公开一种提高提拉法制作ZnO透明导电薄膜透过率的方法，该方法的ZnO溶胶相对于基底板沿水平方向以26.9～85.7mm/min速率匀速运动，有两种实现方式：一采用直板状基底板，ZnO溶胶相对于基底板沿水平方向匀速流动的速率为 V = 1.027 V c T 0.32 n ; 二采用圆筒状基底板，圆筒状基底板相对于盛ZnO溶胶的容器绕其竖直方向轴线匀角速转动，圆筒状基底板转动角速率为 ω = 1.027 V c T 0.32 nR . 其中，Vc为基底板自ZnO溶胶中垂直提拉的速度，Vc＝6～15mm/min；n为溶胶中Zn离子的浓度，n＝0.7～0.8mol/l；T为溶胶温度，T＝50～70℃；R为圆筒型基底板的外圆半径，R＝3～6cm。本方法制作成本低，操作方便，ZnO薄膜透过率提高明显。

主权项

1.一种提高提拉法ZnO薄膜透过率的制作方法，包括基底板自ZnO溶胶中垂直提拉，其特征是：ZnO溶胶相对于基底板沿水平方向以26.9～85.7mm/min的速率匀速运动；ZnO溶胶相对于基底板沿水平方向匀速运动，有两种实现方式：一是基底板为直板状基底板，ZnO溶胶相对于基底板沿水平方向匀速流动的速率为其中，V_c＝6～15mm/min，为直板状基底板自ZnO溶胶中垂直提拉的速度；T＝50～70℃，为溶胶温度；n＝0.7～0.8mol/l，为溶胶中Zn离子的浓度；二是基底板为圆筒状基底板，圆筒状基底板相对于盛ZnO溶胶的容器绕其竖直方向轴线匀角速转动，圆筒状基底板转动角速率为其中，V_c＝6～15mm/min，为圆筒状基底板自ZnO溶胶中垂直提拉的速度；T＝50～70℃，为溶胶温度；n＝0.7～0.8mol/l，为溶胶中Zn离子的浓度；R＝3～6cm，为圆筒状基底板的外圆半径。