发明名称 向非导电基底施用金属涂层的方法
摘要 本发明描述了向非导电基底施用金属涂层的新型方法,包括下述步骤:(a)使该基底与包含贵金属/第IVA族金属溶胶的活化剂接触,以获得经过处理的基底,(b)使所述经过处理的基底与包含下述物质的溶液的组合物接触:(i)Cu(II)、Ag、Au或Ni可溶金属盐或其混合物,(ii)0.05至5摩尔/升的第IA族金属氢氧化物,和(iii)所述金属盐的金属离子的络合剂,其中使用亚氨基琥珀酸或其衍生物作为所述络合剂。
申请公布号 CN101675186B 申请公布日期 2012.03.07
申请号 CN200880014598.2 申请日期 2008.04.24
申请人 阿托特希德国有限公司 发明人 S·沙多;B·迪尔布施;C·C·费尔斯
分类号 C25D5/54(2006.01)I;C25D5/56(2006.01)I;C23C18/28(2006.01)I;C23C18/30(2006.01)I;C23C28/04(2006.01)I 主分类号 C25D5/54(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 林柏楠;刘金辉
主权项 向非导电基底施用金属涂层的方法,包括下述步骤:(a)使基底与包含贵金属/第IVA族金属溶胶的活化剂接触,以获得经过处理的基底,(b)使所述经过处理的基底与包含下述物质的溶液的组合物接触:(i)Cu(II)、Ag、Au或Ni可溶金属盐或其混合物,(ii)0.05至5摩尔/升的第IA族金属氢氧化物,和(iii)所述金属盐的金属离子的络合剂,其特征在于使用亚氨基琥珀酸或其衍生物作为所述络合剂。
地址 德国柏林