辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置

摘要

本发明公开了一种辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置，设有溅射室、过渡室，其特征在于：所述溅射室、过渡室的腔体底板设有传送辊轮，所述溅射室在其与过渡室衔接的出口的腔体底板上设置有挡板，所述挡板位于传送滚轴的一侧。本发明通过挡板阻挡溅射粒子通过玻璃传送的间隙溅射到传送辊轴外圈上，降低了溅射粒子对辊轴外圈的污染，大大减少了玻璃在传送过程中因辊轴被溅射而发生划伤及位置偏移的情况，保证了生产的延续性，提高了产品的良品率。

主权项

一种辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置，设有溅射室、过渡室， 其特征在于：所述溅射室、过渡室的腔体底板设有传送辊轮，所述溅射室在其与过渡室衔接的出口的腔体底板上设置有挡板，所述挡板位于传送滚轴的一侧。