气体分配系统和应用该气体分配系统的半导体处理设备

摘要

本发明提供了一种用于向反应区域输送工艺气体的气体分配系统，其包括顺序连接的气体供应部分、切换部分以及流量控制部分。气体供应部分用于提供工艺气体，并将其向切换部分输送；切换部分用于在前后工序转换时，停止向流量控制部分输送当前工序所需的工艺气体，转而向其输送下一道工序所需的工艺气体；流量控制部分为集成流量控制器，用于根据工艺要求控制工艺气体的流量，并将所述工艺气体向反应区域输送。此外，本发明还提供一种应用上述气体分配系统的半导体处理设备。本发明提供的气体分配系统及半导体处理设备具有体积小、便于安装和维护、应用成本低等特点；同时，应用该气体分配系统的半导体处理设备还具有产品产出率较高等特点。

主权项

一种气体分配系统，用于向工艺室的N个反应区域输送工艺气体，其中N大于或等于1，所述气体分配系统，包括顺序连接的气体供应部分、切换部分以及流量控制部分，所述气体供应部分用于提供工艺气体，并将其向切换部分输送；所述切换部分用于在前后工序转换时，停止向流量控制部分输送当前工序所需的工艺气体，转而向其输送下一道工序所需的工艺气体，其特征在于，所述气体供应部分通过两路气路与所述切换部分相连，其中的一路气路用于输送当前工序所需的工艺气体，另一路气路用于输送下一道工序所需的工艺气体；所述切换部分包括N个选择气路，每一个所述选择气路包括两个气动阀门，其中一个气动阀门用于控制所述气体供应部分与所述流量控制部分的通断，另一个气动阀门用于控制所述气体供应部分与旁路的通断；所述流量控制部分为集成流量控制器，用于根据工艺要求控制工艺气体的流量，并将所述工艺气体向反应区域输送。