| 发明名称 | 包含抑制剂的无空隙亚微米结构填充用金属电镀组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物，所述抑制剂可通过使a)包含活性氨官能团的胺化合物与b)氧化乙烯与至少一种选自C3和C4氧化烯的化合物的混合物反应而获得，所述抑制剂具有6000g/mol或更高的分子量Mw。 | ||
| 申请公布号 | CN102369315A | 申请公布日期 | 2012.03.07 |
| 申请号 | CN201080015460.1 | 申请日期 | 2010.03.29 |
| 申请人 | 巴斯夫欧洲公司 | 发明人 | C·勒格尔-格普费特;R·B·雷特尔;C·埃姆内特;A·哈格;D·迈耶 |
| 分类号 | C25D3/38(2006.01)I;C23C18/31(2006.01)I;C23C18/32(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I;H05K3/24(2006.01)I;C25D3/58(2006.01)I;C25D7/12(2006.01)I | 主分类号 | C25D3/38(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 刘金辉;林柏楠 |
| 主权项 | 一种包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物，所述抑制剂可通过使a)与b)反应而获得：a)含有活性氨官能团的胺化合物，b)氧化乙烯与至少一种选自C3和C4氧化烯的化合物的混合物，所述抑制剂具有6000g/mol或更高的分子量Mw。 | ||
| 地址 | 德国路德维希港 | ||