发明名称 |
超声波清洗装置 |
摘要 |
本发明提供了一种通过在多个振动元件之间发射均匀的超声波来消除声压的不均匀,提高微粒子的除去率的无清洗斑的超声波清洗装置。该超声波清洗装置具有:清洗槽,用于收容被清洗物和清洗液;多个振动元件,安装在所述清洗槽上;多个振荡器,分别与所述多个振动元件连接,用于激励所述多个振动元件;以及控制部,与所述多个振荡器连接,用于控制多个振荡器以使所述多个振荡器对所述多个振动元件输出相位相同或相位大致相同的信号。 |
申请公布号 |
CN101395704B |
申请公布日期 |
2012.03.07 |
申请号 |
CN200780007505.9 |
申请日期 |
2007.09.10 |
申请人 |
株式会社华祥 |
发明人 |
长谷川浩史;釜村智治 |
分类号 |
H01L21/304(2006.01)I;B06B1/06(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 |
北京润平知识产权代理有限公司 11283 |
代理人 |
周建秋;王凤桐 |
主权项 |
一种超声波清洗装置,其特征在于,该超声波清洗装置包括:清洗槽,用于收容被清洗物和清洗液;多个振动元件,安装在所述清洗槽上;分别与所述多个振动元件连接的多个振荡器,用于激励所述多个振动元件并且分别与用于供电的商用电源连接;以及与所述多个振荡器连接的控制部,用于控制所述多个振荡器以使所述多个振荡器对所述多个振动元件输出相位相同的信号;所述多个振荡器用于输出由所述控制部输出的同步脉冲统一定时的相位相同的信号;所述控制部不具备需要功率大于同步脉冲信号的振荡器的功能。 |
地址 |
日本东京 |