发明名称 PLASMA PROCESS APPARATUS
摘要 <p>소정의 플라즈마 처리가 실시되는 기판을 수납하는 감압 배기 가능한 처리실과, 플라즈마를 생성하기 위해 마이크로파를 발생시키는 마이크로파 발생기와, 상기 마이크로파 발생기로부터의 마이크로파를 상기 처리실로 전파하는 도파관과, 상기 도파관의 일단에 연결된 도파관-동축관 변환기와, 마이크로파가 상기 도파관-동축관 변환기로부터 상기 처리실로 전파되는 라인을 형성하는 동축관을 포함하는 플라즈마 처리 장치가 개시된다. 상기 동축관의 내부 도전체는, 중공부와, 상기 동축관의 내부 도전체의 중공부를 통해 상기 처리실로 처리 가스를 공급하는 제 1 처리 가스 공급부를 구비한다.</p>
申请公布号 KR101119627(B1) 申请公布日期 2012.03.07
申请号 KR20097022751 申请日期 2008.03.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/3065 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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