| 发明名称 | 薄膜形成装置及薄膜形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够防止灰尘附着在工件上、并防止薄膜材料附着在工件的侧部，而且能够以均匀的厚度形成薄膜的薄膜形成装置及薄膜形成方法。具有对工件在(1)的上表面进行保持的保持部(2)、把树脂(R)供给到被保持部(2)保持的工件(1)的下方的供给部(3)、使被所述保持部(2)保持的工件(1)旋转从而使由所述供给部(3)供给的树脂(R)在工件(1)的下表面上延展的旋转机构(22)、通过朝在工件(1)的下表面上延展的树脂(R)照射紫外线(UV)而使树脂(R)硬化的硬化部(4)、和使保持部(2)在供给部(3)与硬化部(4)间移动的移动机构(24)。 | ||
| 申请公布号 | CN102369572A | 申请公布日期 | 2012.03.07 |
| 申请号 | CN201080014333.X | 申请日期 | 2010.03.26 |
| 申请人 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | 发明人 | 广濑治道;泷泽洋次;西垣寿 |
| 分类号 | G11B7/26(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G11B7/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 吕林红 |
| 主权项 | 一种薄膜形成装置，其特征在于，具有：保持部，其对平板状的工件的上表面进行保持；供给部，其把膜材料供给到被所述保持部保持着的工件的垂直方向的下表面；和旋转机构，其使被所述保持部保持的工件旋转，从而使由所述供给部供给的膜材料在工件的下表面上延展。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||