| 发明名称 | 对辐射敏感的基片成像用的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种对辐射敏感的基片(17)成像用的方法，其中在应用具有以下波长的相干辐射(2)的情况下把可编程模板(6)投影在辐射敏感的基片(17)上，在所述波长时该基片(17)是辐射敏感的。通过声学-光学或电光学偏转单元(11)这样地同时进行地推移具有图像栅格(30)的可编程模板(6)的整个图像，使得多次投影在不同的位置处射在该基片(17)上，以便在基片(17)上在图像栅格(30)中产生精细的部分栅格(31)。另外，本发明还描述一种执行该方法的装置。 | ||
| 申请公布号 | CN102369483A | 申请公布日期 | 2012.03.07 |
| 申请号 | CN200980146357.8 | 申请日期 | 2009.10.23 |
| 申请人 | 海德堡显微技术仪器股份有限公司 | 发明人 | R·威纳恩茨范雷桑特;R·卡普兰 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 臧永杰;卢江 |
| 主权项 | 对辐射敏感的基片(17)成像用的方法，其中在应用具有以下波长的相干辐射(2)的情况下在辐射敏感的基片(17)上投影可编程模板(6)，在所述波长时，所述基片(17)是辐射敏感的，其特征在于，通过声学‑光学或电光学偏转单元(11)这样地同时进行地推移具有图像栅格(30)的可编程模板(6)的整个图像，使得多次投影在不同位置处射在基片(17)上，以便在基片(17)上在图像栅格(30)中产生精细的部分栅格(31)。 | ||
| 地址 | 德国海德堡 | ||