Illumination optical unit for EUV microlithography,申请号EP20100191631-传众专利搜索

发明名称	Illumination optical unit for EUV microlithography
摘要
申请公布号	EP2333611(B8)	申请公布日期	2012.03.07
申请号	EP20100191631	申请日期	2010.11.18
申请人	CARL ZEISS SMT GMBH	发明人	ENDRES, MARTIN;DOERN, SEBASTIAN;BIELING, STIG;KIRCH, MARC
分类号	G03F7/20;G02B5/09	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
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