发明名称 铪系化合物、形成铪系薄膜的材料和形成铪系薄膜的方法
摘要 提供常温下为液体并富有稳定性的铪系化合物。还提供可稳定供应原料、稳定形成高品质的铪系薄膜的技术。特别是提供为下述通式[I]表示的化合物的形成铪系薄膜的材料。通式[I]:LHf(NR1R2)3 ,其中,L为环戊二烯基或取代的环戊二烯基;R1、R2为烷基,R1和R2彼此相同或不同。
申请公布号 CN101341155B 申请公布日期 2012.03.07
申请号 CN200680045244.5 申请日期 2006.11.29
申请人 TRI化学研究所股份有限公司 发明人 平木忠明;三桥智;太附圣;椿谷晓人;金炳洙;刘升镐
分类号 C07F7/00(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I 主分类号 C07F7/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 吴娟;李平英
主权项 化合物,其特征在于:以下述通式[I]表示,通式[I]CpHf(NR1R2)3其中,Cp为环戊二烯基;R1、R2为甲基或乙基,R1和R2彼此不同或相同。
地址 日本山梨县