ANTISTATIC PHOTO-RESIST,申请号EP19870308997-传众专利搜索

发明名称	ANTISTATIC PHOTO-RESIST
摘要	A photo-resist (3), for use as a mask in implanting ions into a semiconductor substrate (1), comprises an antistatically effective amount of an antistatic agent.
申请公布号	EP0265135(A3)	申请公布日期	1989.07.12
申请号	EP19870308997	申请日期	1987.10.12
申请人	MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA;MITSUBISHI KASEI CORPORATION	发明人	MIURA, KONOE;OCHIAI, TAMEICHI;KAMEYAMA, YASUHIRO;KOYAMA, TOORU C/O MITSUBISHI DENKI K.K.;OKABE, TAKASHI C/O MITSUBISHI DENKI K.K.;MAMETANI, TOMOHARU C/O MITSUBISHI DENKI K.K.
分类号	G03C1/00;G03F7/004;G03F7/022;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/02	主分类号	G03C1/00
代理机构		代理人
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