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发明名称 Lithographic Apparatus and Method
摘要 <p>침지형의 리소그래피 장치가 개시된다. 상기 장치에서, 투영 시스템의 최종 요소 근처에, 예를 들어 액체 핸들링 시스템의 배리어 부재에 복수의 가열 및/또는 냉각 디바이스들이 제공된다. 상기 가열 및/또는 냉각 디바이스들은, 예를 들어 투영 시스템의 최종 요소의 온도 구배를 제어하여 수차들을 제어하는데 사용될 수 있다.</p>
申请公布号 KR101118659(B1) 申请公布日期 2012.03.06
申请号 KR20090054513 申请日期 2009.06.18
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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