| 摘要 |
<p>웨이퍼와, 상기 웨이퍼를 홀딩할 수 있는 포켓을 포함하는 서셉터와, 상기 서셉터를 포함하는 처리챔버를 포함하며, 상기 처리챔버의 상부에 위치하여 상기 서셉터상의 웨이퍼의 온도 및 박막성장률을 측정할 수 있는 복사온도측정장치와, 상기 복사온도측정장치로부터 수신된 값을 모니터링할 수 있도록 하는 인시츄(in-situ)모니터링부를 포함함으로써, 상기 서셉터의 회전과 동기화되어 상기 복사온도측정장치가 상기 챔버의 가이드라인을 따라 X축방향으로 이동할 수 있도록 함으로써, 서셉터 상부에 포함되는 웨이퍼의 온도 및 박막성장률을 실시간으로 측정할 수 있도록 하며, 상기 복사온도측정장치에 모션콘크롤러를 포함하여 상기 복사온도측정장치가 X축으로 이동할 수 있도록 하여 서셉터상에 한열이 아닌 복수열의 웨이퍼를 형성하여도 전 영역을 외측부터 나선형 형태로 스캔할 수 있어 서셉터상의 원하는 웨이퍼를 지정하여 온도 및 성장률을 측정할 수 있도록 하는 복수열의 웨이퍼포켓을 갖는 웨이퍼 박막증착장비의 인시츄 모니터링 장치에 관한 것이다.</p> |
