| 摘要 |
<p>이온 주입 시스템이 제공된다. 이온 빔을 발생시키는 이온 발생부; 및 상기 이온 발생부로부터 발생된 이온 빔이 조사되는 가공물이 내부에 위치되며, 상기 이온 발생부로부터 발생된 이온 빔이 내부로 주입되는 이온 주입 챔버를 포함하고, 상기 이온 발생부는 상기 가공물의 상부측으로 이온을 조사하는 제 1 이온 발생부 및 상기 가공물의 하부측으로 이온을 조사하는 제 2 이온 발생부를 포함하는 이온 주입 시스템은, 이온 발생부가 주입 가공물의 이송 방향에 대하여 엇갈리게 배열되어 있어 큰 크기의 가공물도 한번에 전체적으로 이온 주입 가능하다.</p> |
