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发明名称 ETCHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>에칭 방법에 있어서, 에칭 시간에 의존하지 않고 에칭량이 정해지는 조건하에서, 에칭 횟수에 의해서 에칭량을 제어한다. 이에 따라서, 에칭을 단계적으로 행할 수 있으므로, 에칭량을 고정밀도로 제어하는 것이 가능하다.</p>
申请公布号 KR101113358(B1) 申请公布日期 2012.03.02
申请号 KR20040100586 申请日期 2004.12.02
申请人 发明人
分类号 H01L21/3063;H01L21/306;H01L21/335;H01L21/8234;H01L27/088;H01L27/095 主分类号 H01L21/3063
代理机构 代理人
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