| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (11) für die Halbleiterlithographie mit optischen Elementen (1, 18), wobei mindestens eines der optischen Elemente (1) Mittel (2) zum kontaktlosen Erzeugen elektrischer Ströme in dem optischen Element (1) aufweist, welche geeignet sind, das mindestens eine optische Element (1) mindestens bereichsweise zu erwärmen. |
