| 发明名称 | 阻气性膜以及阻气性叠层体 | ||
| 摘要 | 本发明涉及具有在基体材料的两面或单面形成的氧化硅膜的阻气性膜、通过电子自旋共振法(ESR法)测定观测的上述氧化硅膜的Pb中心的自由基密度为1×1016～1×1019spins/cm3的阻气性膜、以及，具有在基体材料的两面或单面形成的包含氧化硅和其他金属成分的无机薄膜的阻气性膜、通过ESR法测定观测的上述无机薄膜中的氧化硅的Pb中心的自由基浓度为3×1014～3×1017spins/mol的阻气性膜，以及在上述阻气性膜上叠层了至少1层纸和/或塑料膜的叠层体。 | ||
| 申请公布号 | CN1910040B | 申请公布日期 | 2012.02.29 |
| 申请号 | CN200580003119.3 | 申请日期 | 2005.01.26 |
| 申请人 | 三菱树脂株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所 | 发明人 | 蜂须贺亨;吉田重信;大川原千春;小林庆规;伊藤贤志;富樫寿;平田浩一 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
| 主权项 | 一种阻气性膜，该阻气性膜具有基体材料、和在上述基体材料的两面或单面形成的包含氧化硅膜的无机薄膜，其特征在于，通过电子自旋共振法即ESR法测定观测的上述氧化硅膜的Pb中心的自由基密度为1×1016～1×1019spins/cm3。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||