EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置

摘要

一种EUV微光刻的照明光学系统，用于将来自辐射源的照明光束导引到物场。至少一个EUV反射镜(13)包括反射面(29)，为了形成该照明光束，反射面(29)具有非平面反射镜形貌。EUV反射镜(13)具有布置在其前面的至少一个EUV衰减器。面向EUV反射镜(13)的反射面(29)的衰减器面具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补而使得衰减器面的至少部分以恒定间隔距反射面(29)布置。结果是照明光学系统，其中可以校正物场上照明参数、例如照明强度分布或者照明角度分布的不利变化，且使不利的辐射损失尽可能少。

主权项

一种EUV微光刻的照明光学系统(4)，用于将来自辐射源(3)的照明光束(10)导引到物场(5)，‑具有包括反射面(29)的至少一个EUV反射镜(13)，为了形成该照明光束(10)，该反射面(29)具有非平面反射镜形貌，‑具有至少一个EUV衰减器(27)，其布置在该EUV反射镜(13)的前面，并且面向该EUV反射镜(13)的该反射面(29)的该EUV衰减器(27)衰减器面(31)具有衰减器形貌，该衰减器形貌设计为与该反射镜形貌互补，使得衰减器面(31)的至少部分以恒定间隔距该反射面(29)布置而不接触该反射面(29)。