发明名称 超分辨率光学成像装置与方法
摘要 本发明公布了一种超分辨率光学成像的装置与方法,该成像装置由基底构成,所述基底上设置凹槽(台阶),凹槽的深度(台阶的高度)设计,使得通过凹槽(台阶)与通过凹槽边缘(台阶外面)的光程差为成像物体发出光波长的一半。位于凹槽(台阶)正上方的光束投射到凹槽底面(台阶表面);其它光束一半通过凹槽底面(台阶表面),一半通过基底边缘,经由凹槽底面(台阶表面)与基底边缘的光束在基底发生自混合干涉相消,取得位于凹槽正上方的光束信息,从而突破衍射极限。本发明体积小,结构简单,实现了超分辨率成像。
申请公布号 CN101866060B 申请公布日期 2012.02.29
申请号 CN200910259937.X 申请日期 2009.12.23
申请人 南京邮电大学;香港中文大学 发明人 何浩培;杨涛;李千秋;黄维;蔡潮盛
分类号 G02B27/58(2006.01)I 主分类号 G02B27/58(2006.01)I
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人 叶连生
主权项 一种超分辨率光学成像装置,其特征在于该成像装置由基底(2)构成,所述基底(2)上设置凹槽(1),凹槽(1)边缘正上方的入射光束分别通过凹槽(1)与凹槽(1)边缘,凹槽(1)的深度使得所述通过凹槽(1)的光束与通过凹槽(1)边缘的光束发生相消干涉,使得靠近凹槽(1)边缘的光因为相消干涉而在一定程度上不能直接透过该装置;所述基底(2)所用的材料为透光材料。
地址 210046 江苏省南京市亚东新城区文苑路9号