发明名称 |
能量分散型辐射探测系统和测量目标元素的含量的方法 |
摘要 |
为了提供能量分散型辐射探测系统和测量目标元素的含量的方法,所述方法能够通过抑制堆积的影响确定构成探测的最佳最小极限的入射辐射的强度来执行测量,该能量分散型辐射探测系统包括用于以预定强度将入射辐射照射到样品的入射系统,和用于通过照射入射辐射探测从该样品发射的辐射以便基于被探测的辐射的光谱确定该样品的目标元素的含量的探测系统,并且该能量分散型辐射探测系统包括能够通过基于被探测的辐射的光谱确定最小化目标元素的探测的最小极限的入射辐射的最佳强度来以该最佳强度照射入射辐射的控制部分。 |
申请公布号 |
CN101101269B |
申请公布日期 |
2012.02.29 |
申请号 |
CN200710126208.8 |
申请日期 |
2007.06.22 |
申请人 |
精工电子纳米科技有限公司 |
发明人 |
的场吉毅;长谷川清;深井隆行 |
分类号 |
G01N23/22(2006.01)I;H01J37/252(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/22(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
张雪梅;刘宗杰 |
主权项 |
一种能量分散型荧光X射线探测系统,该系统包括用于以预定强度将入射辐射照射到样品的入射系统,和用于通过照射入射辐射探测从该样品发射的荧光X射线以便基于被探测的荧光X射线的光谱确定该样品的目标元素的含量的探测系统,该能量分散型荧光X射线探测系统包括:能够通过基于被探测的荧光X射线的光谱确定最小化目标元素的探测的最小极限的入射辐射的最佳强度来以该最佳强度照射入射辐射的控制部分,其中控制部分包括分析装置,用于根据被探测的荧光X射线的光谱计算目标元素的灵敏度、在对应于目标元素的荧光X射线的能量中由堆积引起的第一背景强度和由除了堆积之外的其他引起的第二背景强度、和在探测荧光X射线时探测系统的空载时间率;和入射辐射强度确定装置,用于基于灵敏度、第一背景强度、第二背景强度和空载时间率来计算最小化目标元素的探测的最小极限的入射辐射的最佳强度。 |
地址 |
日本千叶县千叶市 |