柔性ITO磁控镀膜装置

摘要

本实用新型公开一种柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体和分别设于容器体内的水冷镀膜辊、薄膜传动机构及磁控靶，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。本柔性ITO磁控镀膜装置通过在水冷镀膜辊的输入侧和输出侧分别设置离子源组件，使薄膜在镀膜前后其表面都附着离子，从而提高薄膜表面镀膜层的附着力，提高柔性ITO的成品质量。

主权项

柔性ITO磁控镀膜装置，包括容器体、水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶，水冷镀膜辊、薄膜传动机构和磁控靶分别设于容器体内，薄膜传动机构包括对称设于水冷镀膜辊两侧的薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件，水冷镀膜辊外周分布有多个磁控靶，其特征在于，所述薄膜输入传动组件和薄膜输出传动组件上分别设有离子源组件，各离子源组件分别包括离子源正极导体和离子源负极导体，离子源正极导体和离子源负极导体分别设于薄膜的两面，离子源正极导体和离子源负极导体上分别设有充气孔。