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发明名称 POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR HIGH SILICON NITRIDE TO SILICON OXIDE REMOVAL RATE RATIOS
摘要
申请公布号 KR101117401(B1) 申请公布日期 2012.02.29
申请号 KR20077012608 申请日期 2005.10.21
申请人 发明人
分类号 C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
主权项
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