曝光绘图装置

摘要

本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。

主权项

一种曝光绘图装置，将图案绘图在被曝光体，其包括：光源，照射包含紫外线的光；有孔构件，设有用于将上述光源分离成第一光束及第二光束的第一开口窗及第二开口窗、以及光量检测用的检测窗；第一及第二光学组件，将通过上述第一开口窗及第二开口窗的上述第一光束及第二光束分别反射；以及第一光量传感器，配置在上述第一光学组件及第二光学组件之间的附近，检测出来自光源的、通过上述检测窗的光量。