| 发明名称 | 用于真空覆层设备的工艺室的分隔装置和真空覆层设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于真空覆层设备的工艺室的分隔装置和真空覆层设备，其中能够简单且经济地分隔相邻的工艺室的工艺气氛，并且能够给工艺室通风，同时在相邻的工艺室内维持在那里存在的工艺气氛。根据本发明的用于真空覆层设备的相继地布置的工艺室的分隔装置，包括可在两个工艺室之间横向于基底输送方向安置的分隔元件，所述真空覆层设备用于给平整基底覆层，所述分隔元件具有用于基底的通道，所述通道布置在基底输送平面的区域内并通过在该分隔元件内设置的至少一个通过开口构成，其特征在于，设有至少一个闭塞装置，其选择性地封闭或者开放所述通道。根据本发明的一个改进方案设计，此外还设有由中间室外壁构成的中间室，并且分隔元件布置在中间室内，并且所述中间室被划分成两个中间室部分。在该实施方式中，根据本发明的分隔装置构成了自己的室，该室能够布置在两个相邻的工艺室之间。 | ||
| 申请公布号 | CN101313084B | 申请公布日期 | 2012.02.29 |
| 申请号 | CN200680043417.X | 申请日期 | 2006.11.21 |
| 申请人 | 冯·阿德纳设备有限公司 | 发明人 | 米歇尔·霍夫曼;约亨·克劳泽 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 郑立;林月俊 |
| 主权项 | 分隔装置，所述分隔装置用于真空覆层设备的相继布置的工艺室，所述真空覆层设备用于给平整基底覆层，所述分隔装置包括可在两个工艺室之间横向于所述基底的输送方向安置的分隔元件(11)，所述分隔元件(11)具有用于所述基底的、在所述基底的输送平面(2)的区域内布置的通道(12、17)，其特征在于，设有两个闭塞装置(13、18)，所述两个闭塞装置(13、18)设置在所述分隔元件(11)的相反侧上，所述闭塞装置(13、18)从所述分隔元件(11)的相反侧选择性地封闭或者开放所述通道(12、17)。 | ||
| 地址 | 德国德累斯顿 | ||