Method for coarse wafer alignment in a lithographic apparatus,申请号EP20090155599-传众专利搜索

发明名称	Method for coarse wafer alignment in a lithographic apparatus
摘要
申请公布号	EP2103995(A3)	申请公布日期	2012.02.29
申请号	EP20090155599	申请日期	2009.03.19
申请人	ASML NETHERLANDS B.V.	发明人	WARNAAR, PATRICK;BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
分类号	G03F9/00	主分类号	G03F9/00
代理机构		代理人
主权项
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