| 发明名称 | 低分子量重钙研磨分散剂及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种低分子量重钙研磨分散剂及其制备方法，制备方法，包括如下步骤：(1)在惰性气氛中，将单体滴入水、无机链转移剂和光敏引发剂中，滴加时间为3～6小时，同时在紫外光照射下，进行光引发聚合，单体滴加完毕后，继续反应0.5～2小时，(2)然后用NaOH溶液调节pH至4～6，并加水调节固含量至41～43％，得到目标分散剂。本发明所制备的分散剂是一种高效的重钙研磨分散剂，研磨所得重钙浆料具有粘度低、粘度稳定性好、并且碳酸钙粒子粒径细等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN102363638A | 申请公布日期 | 2012.02.29 |
| 申请号 | CN201110183054.2 | 申请日期 | 2011.06.30 |
| 申请人 | 上海东升新材料有限公司 | 发明人 | 施晓旦;金霞朝;王养臣 |
| 分类号 | C08F120/06(2006.01)I;C08F220/06(2006.01)I;C08F220/14(2006.01)I;C08F220/18(2006.01)I;C08F222/06(2006.01)I;C08F228/02(2006.01)I;C08F2/38(2006.01)I;C08F2/50(2006.01)I;B01F17/52(2006.01)I | 主分类号 | C08F120/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 郑玮 |
| 主权项 | 低分子量重钙研磨分散剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在惰性气氛中，将单体滴入水、无机链转移剂和光敏引发剂中，滴加时间为3～6小时，同时在紫外光照射下，进行光引发聚合，单体滴加完毕后，继续反应0.5～2小时；(2)然后用NaOH溶液调节pH至4～6，并加水调节固含量至41～43％，得到目标分散剂。 | ||
| 地址 | 200223 上海市徐汇区田林路388号1幢701室 | ||