化学机械抛光液

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液，包括至少一种研磨颗粒、一种化学添加剂和一种载体；其中，该化学添加剂为聚羧酸类化合物和/或其盐。本发明可以明显降低缺陷率，提高金属表面平坦化水平，显著降低金属的抛光速率，优化电介质的抛光速率，扩大工艺参数窗口。

主权项

一种化学机械抛光液，其特征在于，由研磨颗粒、聚羧酸类化合物和/或其盐、表面活性剂、载体和一元羧酸、二元羧酸、多元羧酸和/或其盐组成，其中，所述的一元羧酸为乙酸，所述的二元羧酸为草酸、丁二酸和/或酒石酸，所述的多元羧酸为柠檬酸、环己二胺四乙酸、二乙三胺五乙酸、乙二胺四乙酸和/或丹宁酸，所述的盐为铵盐、钾盐和/或钠盐，所述的表面活性剂为：脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷基胺和/或烷基醇酰胺，其中，研磨颗粒的浓度为1～20重量％、聚羧酸类化合物和/或其盐的浓度为0.001～10重量％、所述的一元羧酸、二元羧酸、多元羧酸和/或其盐的浓度为0.1～10重量％；其中，所述的聚羧酸类化合物为聚丙烯酸类化合物和/或丙烯酸类化合物的共聚物，所述的盐为铵盐、钾盐或钠盐，其分子量在2,000～3,000,000之间。