发明名称 |
保护剂涂布设备、处理盒及成像装置 |
摘要 |
本发明涉及保护剂涂布设备、处理盒及成像装置。一种将主要包含石蜡的保护剂涂布到感光元件的保护剂涂布设备。该保护剂涂布设备以下述方式将保护剂涂布到感光元件的表面:当涂布保护剂10分钟时,等于或大于0.5μg/cm2的保护剂附着到所述表面,并且当涂布保护剂60分钟时,等于或小于8μg/cm2的保护剂附着到所述表面。 |
申请公布号 |
CN101266415B |
申请公布日期 |
2012.02.29 |
申请号 |
CN200810083773.5 |
申请日期 |
2008.03.12 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
畠山久美子;加幡利幸;山下昌秀 |
分类号 |
G03G5/05(2006.01)I;G03G21/10(2006.01)I |
主分类号 |
G03G5/05(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
宋莉 |
主权项 |
一种成像装置,包含:感光元件;以下述方式将含有石蜡的保护剂涂布到所述感光元件的表面的涂布单元:当涂布该保护剂10分钟时,等于或大于0.5μg/cm2的该保护剂附着到所述表面,并且当涂布该保护剂60分钟时,等于或小于8μg/cm2的该保护剂附着到所述表面;保护层形成机构,其位于所述感光元件的旋转方向上涂布单元的下游并在所述感光元件的表面上形成膜状保护层;和清洁部件,其位于所述感光元件的旋转方向上涂布单元的上游,其中所述保护剂包含40重量%或更多的石蜡,该石蜡的熔点在70℃到130℃的范围内。 |
地址 |
日本东京都 |