| 主权项 |
1. 一种经处理修饰之聚丙烯 为基础之物质,其特征在于其表面上有醯胺基之存在及其XPS结果氧,碳及氮之相对百分比分别为10-13.8%,71.7-76.5%及11.0-143.3%。2. 如申请专利范围第1项之经处理修饰之聚丙烯 为基础之物质,其中该物质为具有307之接触角之聚丙烯酸纤维。3. 一种制备如申请专利范围第1项之表面经修饰之以聚丙烯 为基础之物质之方法,其特征在于0.2-2g聚丙烯系在剧烈搅拌下,10至30℃之温度下,于由100mM,pH7之磷酸盐缓冲液,视情况包括1-3%v/v二甲基甲醯胺(DMF),所组成之介质中以2000-12000u/ml 水合类处理12-24小时。4. 如申请专利范围第3项之方法,其中聚丙烯 物质系以包含 水合其由全部或部份纯化之短杆菌属之种之微生物之细胞溶胞液所组成之产物来处理。5. 如申请专利范围第4项之方法,其中聚丙烯 物质系以包含蛾短杆菌CBS 49874之 水合之制备物处理,该菌可得自international centre@ps8,8.5,5@nlCentraalbureau voor Schimmelcultures,@nlBaarn,Delft,荷兰。6. 如申请专利范围第3至5项中任一项之方法,其中受处理之聚丙烯羇物质为具有不同粒子大小且平均粒子直径在10和200m间之非纱线(non-yarn)聚合物形式。7. 如申请专利范围第3至5项中任一项之方法,其中受处理之聚丙烯羇物质为平均纤维直径在2及30m间之纱线聚合物、纤维或编织品。8. 如申请专利范围第3至5项中任一项之方法,其中受处理之聚丙烯 物质为共单体乙烯酯或丙烯酸酯之均聚物或共聚物。图示简单说明:第1图显示如原来之聚合物(A)及经处理聚合物(B)(样品1)之XPS光谱。530eV附近之峰代表氧,而395及290附近者分别为氮及碳。尖峰之积分可得存在表面之原子之相对百分比。第2图显示颗粒丙烯酸聚合物(实线)之碳之XPS峰其涵盖了聚丙烯酸(APA)及聚丙烯醯胺(PAA,虚线)分析所得 |
