发明名称 SOLUTION BASED LANTHANIDE AND GROUP III PRECURSORS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION
摘要 Oxygen free cyclopentadienyl solvent based precursor formulations having the general formula: (R1R2R3R4R5Cp)3*M wherein R1, R2, R3, R4, and R5 are H or hydrocarbon CnHm (n=1 to 10, m=1 to 2n+1), Cp is cyclopentadienyl and M is an element from the lanthanide series or Group III materials.
申请公布号 KR20120017069(A) 申请公布日期 2012.02.27
申请号 KR20117029733 申请日期 2010.04.26
申请人 LINDE AG. 发明人 MA CE;KIM, KEE CHAN;MCFARLANE GRAHAM ANTHONY
分类号 B01J35/10;B05D5/12;C07F5/00;H01G4/005 主分类号 B01J35/10
代理机构 代理人
主权项
地址