发明名称 保护晶片正面结构及进行晶片切割的方法
摘要 本发明揭露一种保护晶片正面结构及进行晶片切割的方法。首先提供晶片,该晶片的一正面设有多个元件,接着在该晶片的正面形成保护层,然后利用第一黏着层将晶片固定于切割载具,之后进行晶片切割工艺,以形成多个管芯,最后移除该第一黏着层以及该保护层,以分离所述管芯供后续封装之用。其中该保护层为水溶性胶。
申请公布号 CN101244613B 申请公布日期 2012.02.22
申请号 CN200710084933.3 申请日期 2007.02.16
申请人 探微科技股份有限公司 发明人 陈至贤
分类号 B28D5/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I 主分类号 B28D5/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陶凤波
主权项 一种保护晶片正面结构的方法,包含有:提供晶片,该晶片的一正面设有多个元件;形成保护层覆盖于该晶片的该正面;提供第一黏着层贴附于该保护层上,并将该晶片固定于切割载具;进行晶片切割工艺,自该晶片的一背面切割该晶片,形成多个管芯;以及移除该第一黏着层及该保护层,其中该保护层为水溶性胶。
地址 中国台湾桃园县