Method for forming insulating layer in semiconductor device,申请号KR20090057011-传众专利搜索

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发明名称	Method for forming insulating layer in semiconductor device
摘要
申请公布号	KR101116727(B1)	申请公布日期	2012.02.22
申请号	KR20090057011	申请日期	2009.06.25
申请人		发明人
分类号	H01L21/336	主分类号	H01L21/336
代理机构		代理人
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