| 发明名称 | 光学记录介质及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光学记录介质及其制造方法。该光学记录介质包括：无机记录层和设置在无机记录层的至少一个表面上的保护层。该保护层包含氧化铟和氧化锡作为主要成分。 | ||
| 申请公布号 | CN102360559A | 申请公布日期 | 2012.02.22 |
| 申请号 | CN201110304743.4 | 申请日期 | 2008.11.25 |
| 申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 和田豊 |
| 分类号 | G11B7/254(2006.01)I;G11B7/24(2006.01)I;G11B7/243(2006.01)I;G11B7/257(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I | 主分类号 | G11B7/254(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 余刚;吴孟秋 |
| 主权项 | 一种光学记录介质，包括：无机记录层；以及保护层，被设置在所述无机记录层的至少一个表面上；其中，所述无机记录层具有满足以下式(1)的组成：[(ZnS)x(SiO2)1‑x]y(SbzX1‑z)1‑y…(1)其中，0＜x≤1.0、0.3≤y≤0.7、以及0.8＜z≤1.0，并且X为选自由Ga、Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、Cr、Sn以及Tb所组成的组中的至少一种元素。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||