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经营范围
发明名称
ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
摘要
申请公布号
KR101119863(B1)
申请公布日期
2012.02.22
申请号
KR20077003864
申请日期
2005.08.02
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;C23C16/06
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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