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发明名称
光阻聚合物组成物
摘要
本发明有关经由活性自由基聚合技术制备光阻聚合物的方法。采用空间上庞大之酯类单体作为聚合组份。链转移剂之使用包括于聚合处理条件中。描述包括有杂原子之聚合物末端基团的切除。
申请公布号
TWI358609
申请公布日期
2012.02.21
申请号
TW093118645
申请日期
2004.06.25
申请人
JSR股份有限公司 日本
发明人
达德 彼诺特;艾登 莎菲尔;张汉廷;多明尼克 查摩特;西村功;征矢野晃雅;冈本健司;王勇
分类号
G03F7/004
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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