发明名称 光阻聚合物组成物
摘要 本发明有关经由活性自由基聚合技术制备光阻聚合物的方法。采用空间上庞大之酯类单体作为聚合组份。链转移剂之使用包括于聚合处理条件中。描述包括有杂原子之聚合物末端基团的切除。
申请公布号 TWI358609 申请公布日期 2012.02.21
申请号 TW093118645 申请日期 2004.06.25
申请人 JSR股份有限公司 日本 发明人 达德 彼诺特;艾登 莎菲尔;张汉廷;多明尼克 查摩特;西村功;征矢野晃雅;冈本健司;王勇
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本