发明名称 |
用于光微影之组成物及制程 |
摘要 |
本发明系提供一种外涂层组成物(overcoating layer compositions),该外涂层组成物系施用于包含浸润式微影制程(immersion lithography process)用以及非浸润式成像(non-immersion imaging)用之光阻组成物上。 |
申请公布号 |
TWI358613 |
申请公布日期 |
2012.02.21 |
申请号 |
TW096107983 |
申请日期 |
2007.03.08 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
嘉拉夫 麦可K;王大洋 |
分类号 |
G03F7/11;G03F7/095;G03F7/20;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |