控制处理腔室内处理气体的流动的设备

摘要

本发明大致上包括一种用于引导处理气体的流动远离室壁和缝隙阀门开口的方法和设备。通过控制在处理腔室内处理气体的流动路径，可以减少在腔室壁上和缝隙阀门开口内的不希望的沈积。通过减少在缝隙阀门开口内的沈积，可以减少剥落。通过减少在腔室壁上的沈积，可以增加在腔室清洗之间的时间。因此，引导在处理腔室内处理气体的流动可以提高基板产能。