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发明名称
荷电粒子束描画资料之制作方法
摘要
本发明之荷电粒子束描绘资料之制作方法系由电路之布局资料,利用荷电粒子束制作用来一面使前述荷电粒子束偏向,一面描绘特定图案之描绘资料者,其特征在于:输入含有跨过复数偏向区域之图案之布局资料,依据所输入之前述布局资料,在前述复数偏向区域之各偏向区域中,产生前述跨区图案中可在自己之区域偏向之部分图案,将在各前述偏向区域中定义有区域内之部分图案之布局资料变换成荷电粒子束描绘资料而输出。
申请公布号
TWI358749
申请公布日期
2012.02.21
申请号
TW096107246
申请日期
2007.03.02
申请人
纽富来科技股份有限公司 日本
发明人
安保彰人;日暮等;原重博
分类号
H01L21/027;G03F7/20
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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