用于氧化铟层之蚀刻剂组合物及利用彼等组合物之蚀刻方法

摘要

本发明系关于一种用于移除氧化铟层之蚀刻剂，其包括作为主氧化剂之硫酸；辅助氧化剂，诸如H3PO4、HNO3、CH3COOH、HClO4、H2O2及藉由将过氧硫酸钾(2KHSO5)、硫酸氢钾(KHSO4)及硫酸钾(K2SO4)以5：3：2比率一起混合所获得之复合物A；包含以铵为基础之物质之蚀刻抑制剂；及水。该蚀刻剂可在不损坏光阻图案或该氧化铟层下方层的情况下移除该氧化铟层之所要部分。