发明名称 PROCEDIMIENTO METALURGICO Y PLANTA PARA EL MISMO.
摘要 Un procedimiento metalúrgico para la producción y / o el tratamiento de al menos un metal en un reactor (1, 3) a partir del cual una corriente de gas residual cargada con partículas y / o con elementos constitutivos en forma de vapor es descargada a través de un conducto de gas residual (7) y sometida a un postratamiento para alimentar al menos un gas de enfriamiento o una mezcla de gas de enfriamiento, caracterizado porque, sobre el lado del conducto del gas residual (7) encarado hacia el reactor (1, 3) un gas de enfriamiento o una mezcla de gas de enfriamiento (9), cuya temperatura es inferior que la de la corriente de gas residual, es inyectado en el conducto de gas residual (7) a gran velocidad y de forma sustancialmente tangencial con respecto a la dirección de flujo principal del gas residual, porque el gas o la mezcla de gas (9) es inyectado en el conducto de gas residual (7) de tal manera que al menos en una región del conducto de gas residual (7) encarado hacia el reactor (1, 3) una capa del gas o de la mezcla de gas (9) se forma sobre la superficie de la pared interior del conducto de gas residual, porque la temperatura del gas o de la mezcla de gas (9) inyectado en el conducto de gas (7) es al menos de 100 K, de modo preferente, al menos de 500 K por debajo de la temperatura de la corriente de gas residual en la salida del reactor, y porque la cantidad de gas de enfriamiento o de la mezcla de gas de enfriamiento (9) inyectado en el conducto de gas residual (7) se ajusta a la temperatura y a la cantidad de la corriente de gas residual y / o a las propiedades materiales de las partículas fundidas y / o de los elementos constitutivos en forma de vapor de la corriente de gas residual, de tal manera que la temperatura de la mezcla de la corriente de gas residual y del gas de enfriamiento de la mezcla de gas de enfriamiento (9) está por debajo de la temperatura de fusión de las partículas fundidas y / o por debajo de la temperatura de condensación de los elementos constitutivos en forma de vapor de la corriente de gas residual.
申请公布号 ES2374497(T3) 申请公布日期 2012.02.17
申请号 ES20090720639T 申请日期 2009.02.12
申请人 OUTOTEC OYJ 发明人 ORTH, ANDREAS;STROEDER, MICHAEL;NEPPER, JEAN-PAUL
分类号 F27D17/00;C21C5/38 主分类号 F27D17/00
代理机构 代理人
主权项
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