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发明名称 POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD
摘要 <p>This polishing composition contains a water-soluble polymer, polishing accelerator and oxidizing agent. The water-soluble polymer is a polyamide-polyamine polymer having an amine value of 150 mg KOH/1 g·solid or greater.</p>
申请公布号 WO2012020672(A1) 申请公布日期 2012.02.16
申请号 WO2011JP67705 申请日期 2011.08.02
申请人 FUJIMI INCORPORATED;TAMADA, SHUICHI;HIRANO, TATSUHIKO;UMEDA, TAKAHIRO;SUMITA, KAZUYA;IZAWA, YOSHIHIRO 发明人 TAMADA, SHUICHI;HIRANO, TATSUHIKO;UMEDA, TAKAHIRO;SUMITA, KAZUYA;IZAWA, YOSHIHIRO
分类号 H01L21/304;B24B37/00;C09K3/14 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
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