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发明名称
Apparatus for processing substrate with plasma
摘要
申请公布号
KR100572803(B1)
申请公布日期
2006.04.24
申请号
KR20040023680
申请日期
2004.04.07
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
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