发明名称 气体混合装置
摘要 本发明系关于一种气体混合装置,特别系一种用于化学气相沈积法生长奈米碳管之气体泥合装置。本发明所提供之气体混合装置包括:一第一气体混合腔;一与第一气体混合腔相连通之第二气体混合腔,该第二气体混合腔为细长之曲状腔体。本发明之气体混合装置通过第一气体混合腔可使多种气体缓冲混合,再通过第二气体混合腔之细长曲状腔体可增加多种气体分子相互碰撞之机会而使得多种气体更加混合均匀。
申请公布号 TWI255484 申请公布日期 2006.05.21
申请号 TW093118524 申请日期 2004.06.25
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 黄文正;黄全德
分类号 H01J37/073 主分类号 H01J37/073
代理机构 代理人
主权项 1.一种气体混合装置,其包括 一第一气体混合腔; 一与第一气体混合腔相连通之第二气体混合腔,该 第二气体混合腔为细长之曲状腔体。 2.如申请专利范围第1项所述之气体混合装置,其中 该气体混合装置进一步包括复数气体源,其通过复 数导气管与第一气体混合腔一端相连接。 3.如申请专利范围第2项所述之气体混合装置,其中 该气体混合装置进一步包括复数气体流量计,该任 一气体流量计串联于一气体源及第一气体混合腔 之间。 4.如申请专利范围第3项所述之气体混合装置,其中 气体流量计包括气体质量流量计或气体体积流量 计。 5.如申请专利范围第2项所述之气体混合装置,其中 该气体混合装置进一步包括复数个阀门,该任一阀 门串联于一气体源与一气体流量计之间,分别控制 气体源之开放与关合。 6.如申请专利范围第1项所述之气体混合装置,其中 第一气体混合腔为U型腔或方形腔。 7.如申请专利范围第1项所述之气体混合装置,其中 第二气体混合腔为螺旋状腔体。 图式简单说明: 第一图系习知技术一种化学气相沈积法制备奈米 碳管之制备装置示意图。 第二图系本发明第一实施例所提供之气体混合装 置示意图。 第三图系本发明第二实施例所提供之气体混合装 置示意图。
地址 台北县土城市自由街2号