发明名称 密封构件、及使用密封构件之影像显示装置
摘要 影像显示装置具备:隔着间隙对向配置之2片基板(11,12),以及在特定位置密封该等基板俾在2片基板间形成密闭空间之真空密封部(33)。真空密封部(33)具有沿着特定位置填充之密封构件所构成之封闭层(32)。该密封构件之熔点为400℃以下,而凝固时之收缩量在+0.5%至-2.5%之范围内。
申请公布号 TWI255483 申请公布日期 2006.05.21
申请号 TW093138980 申请日期 2004.12.15
申请人 东芝股份有限公司 发明人 山田晃义;竹田博光;海野洋敬;榛叶勇一
分类号 H01J1/00 主分类号 H01J1/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种密封构件,系用于影像显示装置之真空密封 部,其特征为: 熔点在400℃以下,而凝固时之收缩量在+0.5%至-2.5% 之范围内。 2.如申请专利范围第1项之密封构件,其中以铋为主 要成分,并至少添加锡与铟之一方,其添加量为15至 55重量%。 3.一种平面型之影像显示装置,其特征具备: 隔着空隙对向配置之2片基板,以及密封上述基板 之特定位置并在2片基板间形成密闭空间之真空密 封部; 上述真空密封部具有沿着上述特定位置填充之申 请专利范围第1项或第2项所记载之密封构件。 4.如申请专利范围第1项之平面影像显示装置,其中 具备:设置于一方之上述基板内面之萤光体层,以 及用于激励设置于他方之基板内面上之上述萤光 体层之多个电子源。 图式简单说明: 图1表示本发明之第1之场致发射显示器(Field Emmission Display)(以下简称FED)之斜视图。 图2为沿着图1之线II-II切断之上述FED之斜视图。
地址 日本