STRAHLUNGSQUELLE, LITHOGRAPHISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER VORRICHTUNG,申请号AT20090169802T-传众专利搜索

发明名称	STRAHLUNGSQUELLE, LITHOGRAPHISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER VORRICHTUNG
摘要
申请公布号	AT544096(T)	申请公布日期	2012.02.15
申请号	AT20090169802T	申请日期	2009.09.09
申请人	ASML NETHERLANDS B.V.	发明人	SCHIMMEL, HENDRIKUS;BANINE, VADIM;LOOPSTRA, ERIK
分类号	G03F7/20;H05G2/00	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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