发明名称 线式膜形成装置
摘要 本发明公开一种线式膜形成装置,包括:淀积源、防淀积板和屏。淀积源存储不同膜形成材料,并且包括在垂直于传送方向的基板的宽度方向上延伸的开口。所述开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧。所述防淀积板隔开与共淀积室相邻的淀积室,并且相互平行地设置在传送方向的上游侧和下游侧,限制来自开口的蒸汽的淀积区域。屏限制并且使来自开口的蒸汽在基板的淀积区域与通过板限定的淀积区域重合。因而,防止单成分模形成而只有混合膜形成在基板上。
申请公布号 CN101440471B 申请公布日期 2012.02.15
申请号 CN200810178118.8 申请日期 2008.11.19
申请人 三菱重工业株式会社 发明人 神川进;佐藤惠一;北本博子;小林敏郎
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种线式膜形成装置,包括:多个淀积室,至少一个所述淀积室是共淀积室,所述共淀积室通过两种不同的膜形成材料的共淀积过程而形成混合膜,在所述共淀积过程中,所述两种不同膜形成材料被蒸发或者升华,并且然后,蒸发或者升华的两种膜形成材料的蒸汽被混合地淀积,所述多个淀积室在基板被传送的传送方向上设置,如此设置的淀积室在被传送的基板上连续地形成膜,从而,在所述基板上形成多层膜,其中所述共淀积室包括:两个淀积源,所述两个淀积源分别地存储膜形成材料,所述淀积源各自包括开口,每个所述开口在垂直于所述传送方向的基板的宽度方向上延伸,开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧;两个隔开部件,所述隔开部件分别地使共淀积室与相邻的淀积室隔开,所述隔开部件被设置远离所述传送基板,并且被相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧,所述两个淀积源设置在所述两个隔开部件之间;和限制部件,所述限制部件限制从上游侧开口释放并且在基板下游侧淀积的蒸汽,从而,下游侧界线被设置在蒸汽将被淀积的淀积区域上,具有所述下游侧界线的所述淀积区域与从下游侧开口释放并且在基板下游侧淀积的蒸汽的淀积区域重合,在下游侧的所述隔开部件在从下游侧开口释放的蒸汽的淀积区域上设置下游侧界线,并且由于防止包含两种膜形成材料中任何一种的单成分膜形成在基板下游侧,只有混合膜形成在基板的下游侧。
地址 日本东京